三星电子宣布将在明年上半年开始使用环栅技术为客户生产3纳米芯片设计

来源:站长之家 | 2021-10-13 09:47:16 |

10月12日 消息:三星电子已正式宣布,将在台积电之前于2022年上半年开始生产3纳米芯片体。作为三星的对手,台积电将于10月14日召开电话会议,公布第三季度业绩,台积电极有可能对三星电子的这一消息做出回应。

10月7日,三星电子宣布将在明年上半年开始使用环栅 (GAA) 技术为客户生产3纳米 (nm) 芯片设计。它补充说,它将在2023年量产第二代3纳米芯片,并在2025年量产2纳米芯片。

三星电子将使用 GAA 技术进行3纳米芯片生产,以提高充当半导体电流控制开关的晶体管的性能和效率。新的晶体管结构对于持续的工艺迁移至关重要,因为它提高了电源效率、性能和设计灵活性。

与基于鳍式场效应晶体管 (FinFET) 的5纳米工艺相比,三星首个3纳米GAA工艺节点可将性能提升30%,将功耗降低50%,并将芯片面积减少35%。该公司计划将第三代 GAA 技术应用于将于2025年推出的2纳米工艺。

台积电计划继续将 FinFET 技术应用到3纳米工艺中,并从2纳米工艺开始引入 GAA 技术。如果按照三星电子的计划,它将成为全球第一家量产3纳米半导体的代工厂。最初,台积电计划在2022年7月将3纳米工艺应用于英特尔的CPU 和 GPU的量产。

三星电子之所以做出这个出人意料的决定,是因为它与台积电的市场份额差距已经拉大。台积电在2021年第二季度占全球代工市场的58%,三星的份额为14%。根据市场研究公司 Counterpoint Research 的数据,第一季度,台积电的市场份额为55%,而三星为17%。

目前,三星电子和台积电都在生产基于 FinFet 技术的5纳米芯片。然而,专家表示,台积电在良率和性能方面占据上风。


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